ผู้ผลิตส่วนประกอบด้านแสงที่ใช้เทคโนโลยีขั้นสูงกำลังดิ้นรนกับอัตราผลตอบแทนในระหว่างขั้นตอนการรับแสงและขั้นตอนการแข็งตัวของการผลิตไมโครเลนส์ระดับเวเฟอร์

• ความไม่สอดคล้องกันของการฉายรังสี:หลอด UV แบบดั้งเดิมไม่สามารถให้การกระจายแสงที่สม่ำเสมอบนพื้นผิวพื้นผิวขนาดใหญ่ ความเข้มแสงต่ำที่ระยะขอบทำให้เกิดปฏิกิริยาโพลีเมอไรเซชันที่ไม่สมบูรณ์และอัตราการปฏิเสธผลิตภัณฑ์สูง

• การขยายตัวทางความร้อน:ความร้อนอินฟราเรดที่มากเกินไปทำให้โครงสร้างเลนส์ที่มีความละเอียดต่ำกว่าไมครอนบิดเบี้ยวในระหว่างกระบวนการถ่ายภาพหินและกระบวนการบ่ม

แทนที่จะใช้หลอดปรอทหรือวิธีการจ่ายแบบดั้งเดิม เราปรับใช้ระบบบ่มน้ำท่วมด้วย UV LED ความสม่ำเสมอสูงออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับการประมวลผลออปติคัลเกรดเซมิคอนดักเตอร์:

• การสัมผัสเรซินเคลือบแบบหมุน:ระบบส่งแสงท่วมเต็มพื้นผิวโดยตรงไปยังชั้นโฟโตรีซิสต์ที่เคลือบด้วยสปิน/ยูวีเรซินผ่านโฟโตมาสก์

• การออกแบบออปติคอลขั้นสูง:เลนส์ที่ออกแบบเป็นพิเศษช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการกระจายแสง ทำให้กลายเป็นเลนส์ชั้นนำของอุตสาหกรรมความสม่ำเสมอของการฉายรังสีภายใน ± 3%ทั่วทั้งบริเวณการบ่ม

• แหล่งกำเนิดแสงเย็นอย่างแท้จริง:ปฏิบัติงานได้อย่างแม่นยำสเปกตรัมย่านความถี่แคบ 365 นาโนเมตรโดยระบบจะกำจัดรังสีอินฟราเรด โดยคงพื้นผิวไว้ที่อุณหภูมิห้องโดยรอบ เพื่อปกป้องโครงสร้างจุลภาคจากการเสียรูปจากความร้อน

• ความสม่ำเสมอของผลิตภัณฑ์ไร้ที่ติ:อัตราการปฏิเสธที่เกิดจากข้อบกพร่องในการบ่มขอบลดลงเหลือศูนย์ต้องขอบคุณสนามแสง UV ที่สม่ำเสมอเป็นพิเศษ

• ความสมบูรณ์ของโครงสร้างระดับ Sub-Micron:การขจัดความเครียดจากความร้อนทำให้มั่นใจได้ถึงความเสถียรของมิติที่สมบูรณ์แบบสำหรับเลนส์ Fresnel ที่มีความแม่นยำสูง

• เพิ่มประสิทธิภาพการผลิต:ความสามารถในการเปิด/ปิด UV LED ทันทีช่วยลดเวลาในการอุ่นเครื่อง และเพิ่มปริมาณงานสูงสุดสำหรับสายการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ปริมาณมาก

[ติดต่อวิศวกรแอปพลิเคชันของเราเพื่อขอโซลูชัน UV LED แบบกำหนดเอง-เซินเจิ้น Super-curing Opto-Electronic CO., Ltd】