"นักฆ่าที่มองไม่เห็น" ของการบ่มด้วยรังสียูวี: การวิเคราะห์กลไกและแนวทางแก้ไขการยับยั้งออกซิเจน
ในฐานะหนึ่งในเทคโนโลยีการผลิตที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อมที่สำคัญที่สุดในศตวรรษที่ 21 เทคโนโลยีการบ่มด้วยรังสียูวี (UV curing) มีบทบาทสำคัญในหลายสาขา เช่น การพิมพ์ อิเล็กทรอนิกส์ ยานยนต์ และการรักษาพยาบาล อย่างไรก็ตาม การยับยั้งออกซิเจนเปรียบเสมือน "นักฆ่าที่มองไม่เห็น" ซึ่งจำกัดประสิทธิภาพและการขยายการใช้งานของเทคโนโลยีการบ่มด้วยรังสียูวีอย่างจริงจัง
การแสดงออกโดยตรงที่สุดของการยับยั้งออกซิเจนคือ "ความเหนียว" ของพื้นผิวเคลือบ: หลังจากการฉายรังสี UV ภายในสารเคลือบจะแข็งตัวอย่างสมบูรณ์ แต่พื้นผิวยังคงเหนียว และไม่สามารถบรรลุผลการบ่มตามที่คาดหวังได้ ปรากฏการณ์ "ไม่สอดคล้องกัน" นี้ไม่เพียงแต่ส่งผลกระทบต่อคุณภาพรูปลักษณ์ของผลิตภัณฑ์เท่านั้น แต่ยังมีแนวโน้มที่จะทำให้เกิดปัญหาในการประมวลผลในภายหลัง การเสื่อมสภาพของประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์ และแม้กระทั่งการทิ้งผลิตภัณฑ์ทั้งชุด
จากมุมมองด้านประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์ การยับยั้งออกซิเจนจะนำไปสู่โครงสร้างออกซิเดชันที่ไม่เสถียรจำนวนมากบนพื้นผิว ทำให้เกิดข้อบกพร่อง เช่น การเหลืองและรูเข็ม ซึ่งส่งผลกระทบอย่างร้ายแรงต่ออายุการใช้งานและความน่าเชื่อถือของผลิตภัณฑ์ เนื่องจากโครงสร้างสถานะพื้นฐานแบบทริปเลตที่เป็นเอกลักษณ์ อัตราการเกิดปฏิกิริยาของโมเลกุลออกซิเจนกับอนุมูลอิสระจึงสูงกว่าปฏิกิริยาพอลิเมอไรเซชันปกติ 4-5 เท่า ซึ่งเป็นเหตุผลพื้นฐานสำหรับปรากฏการณ์การยับยั้งออกซิเจน
การศึกษาแสดงให้เห็นว่าผ่านมาตรการที่ครอบคลุม เช่น การป้องกันบรรยากาศเฉื่อย การปรับสูตรให้เหมาะสม และการปรับปรุงกระบวนการ สามารถยับยั้งการยับยั้งออกซิเจนได้อย่างมีประสิทธิภาพ และสามารถปรับปรุงประสิทธิภาพการบ่มด้วยรังสียูวีและคุณภาพของผลิตภัณฑ์ได้อย่างมาก
1. สิ่งกีดขวางทางกายภาพ: วิธีการแว็กซ์ลอยตัวและวิธีการเคลือบ
2. ความเข้มของแสง: วิธีง่ายๆ ในการลดการยับยั้งออกซิเจนคือการเพิ่มความเข้มของแสง ซึ่งจะทำให้ตัวริเริ่มสร้างอนุมูลอิสระที่มีความเข้มข้นสูงขึ้น ซึ่งจะรวมตัวกับออกซิเจนที่ละลายน้ำได้อย่างรวดเร็วและลดความเข้มข้นลง
3. แหล่งกำเนิดแสง: เทคโนโลยีแฟลช UV แบบฉายรังสีต่อเนื่องสามารถสร้างพัลส์รังสีอัลตราไวโอเลตที่มีความเข้มสูงและสั้น ซึ่งจะสร้างอนุมูลอิสระที่มีความเข้มข้นสูงมาก แสงอัลตราไวโอเลตสูญญากาศ (เช่น 172 และ 222nm) ที่ปล่อยออกมาจากหลอดเอ็กซิเมอร์สามารถบ่มสารเคลือบที่บางเฉียบเพียง 1-2μm เท่านั้นเนื่องจากการส่งผ่านแสงอัลตราไวโอเลตสูญญากาศต่ำ การบ่มในแถบนี้ไม่จำเป็นต้องใช้ตัวริเริ่มภาพถ่าย ความเข้มข้นของอนุมูลอิสระเริ่มต้นที่สอดคล้องกันจึงต่ำมาก และโอโซนจำนวนมากจะถูกสร้างขึ้นเมื่อทำการเกิดปฏิกิริยาในอากาศ
ผู้ติดต่อ: Mr. Eric Hu
โทร: 0086-13510152819
